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    專利申請

    專利申請的流程是怎樣的?


    第一步:專利檢索,判斷通過幾率

    專業工程師查詢,專業判斷專利通過率,提供專業檢索報告

    第二步:準備資料,提交申請

    1、身份證明文件:公司名義準備營業執照副本復印件(空白處加蓋公章),個人名義準備個人身份證(如果申請人是多個的,則需要提供多個申請人的身份證復印件)

    2、提供產品的技術交底文件(產品資料、圖片、實物)

    第三步:受理通知書

    普通通道提交申請后10-15個工作日內專利局下發受理通知書,綠色通道加急申請后5個工作日內專利局下發受理通知書。之后可以在產品上打上“專利申請號”。

    第四步:授權通知書

    審查合格后,下發授權通知書,需繳納專利登記費、印刷費、印花稅,以及第一年的專利年費。

    第五步:申請成功,拿到注冊證書

    繳納辦登費之后,下發專利證書。外觀專利從申請之日起4-6個月,實用新型從申請之日起6-8個月,發明專利從申請之日起2-3年,才能拿到專利證書。之后可以在專利產品上打上“專利號”以及宣傳語“專利產品,仿冒必究”等。

    馳騁代辦專利申請的好處:

    1、實體公司,可上門服務。

    2、專利檢索,專業寫文。

    3、撰稿速度,申報及時。3-5個工作日可提供初稿給客戶確認

    4、工程師多年經驗,承諾包過。實用新型和外觀專利,如未下證書退全款。

    5、專人跟進,及時匯報。專屬客戶經理跟進,客服每季度回訪匯報進度。

    6、服務系統化,免費一年法律咨詢。

     


    馳騁如何提供服務?


     

    售中服務:

    專利工程師、知識產權顧問雙重服務 


    售后服務:

     (1專利年費免費監控。

     (2)專利運營指導。

    常見問題

    為什么要申請專利?

    申請專利既可以保護自己的發明成果不被他人仿冒,同時可以獨占新技術及新產品的市場,獲得相應的經濟利益(如通過生產銷售專利產品、轉讓專利技術、專利實施許可、專利入股等方式獲利)。沒有專利保護的公開技術任何單位或者個人都可以無償使用。

    專利包括哪些內容?

    在我國,專利包括發明專利、實用新型專利和外觀設計專利。
    (1)
    發明專利是指對產品、方法或者其改進所提出的新的技術方案。
    (2)
    實用新型專利是指對產品的形狀、構造或者其結合所提出的適于實用的新的技術方案。
    (3)
    外觀設計專利是指對產品的形狀、圖案或者其結合以及色彩與形狀、圖案的結合所作出的富有美感并適于工業應用的新設計。

    專利的保護期限有多長?

    發明專利保護20年,實用新型專利保護10年,外觀設計專利保護10年。均自申請日起計算。

    實用和發明同時申請的好處

    (一)兩者同時申請可以確保發明被駁回后,客戶能擁有實用新型專利權,而不至于無權。
    (二)實用新型授權的時間短,可以保證發明在審查期間,客戶擁有實用新型專利的專利權,確保自身的利益。
    (三)在發明通過審查可以授權時,國家會要求申請人選擇放棄其中一項(建議客戶放棄實用新型)

    專利有哪些特征?

    (1) 排他性。發明和實用新型專利權被授予后,未經專利權人許可,任何單位或者個人不得為生產經營目的制造、使用、銷售、許諾銷售、進口該專利產品或依照其專利方法生產該產品。
    外觀設計專利被授權后,任何單位或者個人未經專利權人許可,都不得為生產經營目的制造、銷售、進口其外觀設計專利產品。
    (2)
    時間性。發明成果只在專利保護期限內受到法律保護,失效專利包括期限屆滿或專利權放棄、不繳年費而中途喪失,任何人都可無償使用。
    (3)
    地域性。一項發明在哪個國家獲得專利,就在該國家受到法律保護,外國專利在中國不受保護,同樣中國專利在外國也不受保護。

    授予專利權需要哪些條件?

    (1) 新穎性。以前從來沒有公開過的,也沒有相同的技術方案刊登在出版物上或者已被他人申請專利。
    (2)
    創造性。付出了創造性勞動,發明有實質性特點,優于同類傳統技術。
    (3)
    實用性。比原有技術效果好,且可以用工業方法生產,具有實用性。

    有了技術成果先申請專利還是先發表論文?

    在我國,專利審批采用先申請原則,即兩個以上的申請人向專利局提出同樣的專利申請,專利權授予最先申請專利的個人或單位。因此申請人應及時將其發明創造申請專利,以防他人搶先申請。由于授予專利的條件必須具有新穎性,發表論文、參加展覽、開鑒定會都會公開技術而喪失新穎性,因此發明人有了技術成果之后,應首先申請專利,以免因發表論文而公開技術,喪失專利授權條件。




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